本研究通過不同能量長(zhǎng)脈沖Nd:YAG 1064 nm激光體外照射紅色毛癬菌菌落，觀察長(zhǎng)脈沖1064 nm激光對(duì)紅色毛癬菌生長(zhǎng)曲線的影響。
生長(zhǎng)曲線測(cè)定
一套培養(yǎng)皿于激光照射前即刻(作為第1天)、照射后放回培養(yǎng)箱繼續(xù)培養(yǎng)，于第2～9天，用相機(jī)拍攝菌落大小(培養(yǎng)盤放置于坐標(biāo)紙上，方便計(jì)數(shù))，之后用Photoshop 7.0軟件打開菌落圖像，分別計(jì)數(shù)菌落所占的像點(diǎn)數(shù)和坐標(biāo)紙小方格的像點(diǎn)數(shù)，二者之比乘以小方格的面積即為菌落生長(zhǎng)的面積，未照光組作為對(duì)照組，分別計(jì)算每株菌的未照光組和不同能量激光照射組的菌落生長(zhǎng)面積。此試驗(yàn)重復(fù)3次。
結(jié)果：
長(zhǎng)脈沖Nd:YAG 1064 nm激光照射對(duì)T.rubrum Y菌落生長(zhǎng)的影響記錄紅色毛癬菌Y菌落于激光照射前即刻(第1天)及各能量激光照射后第2～9天的菌落面積，將菌落面積統(tǒng)計(jì)分析如表1所示，并繪制成生長(zhǎng)曲線(圖1)。
不同能量激光照射對(duì)T.rubrum Y菌落生長(zhǎng)的影響
激光照射能量200 J/cm2時(shí)生長(zhǎng)曲線幾乎與對(duì)照組生長(zhǎng)曲線重合；激光照射能量400 J/cm2時(shí)，菌落生長(zhǎng)曲線較對(duì)照組生長(zhǎng)曲線下移，且在第9天時(shí)，菌落生長(zhǎng)面積又恢復(fù)至與對(duì)照組相似；激光照射能量600 J/cm2時(shí)，照射后即刻，菌落面積減小，第2～9天，菌落生長(zhǎng)面積不變，生長(zhǎng)曲線呈直線趨勢(shì)，菌落停止生長(zhǎng)。
本研究中，長(zhǎng)脈沖Nd:YAG 1064 nm激光體外照射臨床分離的T.rubrum Y菌落后，菌落在200 J/cm2處理組，菌落生長(zhǎng)曲線與未行激光照射的對(duì)照組生長(zhǎng)曲線幾乎重合，表明200 J/cm2激光能量不足以抑制T.rubrum Y菌落的生長(zhǎng)。400 J/cm2處理組，T.rubrum Y菌落生長(zhǎng)曲線較對(duì)照組生長(zhǎng)曲線下移，說明可抑制T.rubrum Y菌落的生長(zhǎng)。值得注意的是，激光照射后第2～8天菌落生長(zhǎng)曲線下移，但至第9天時(shí)，菌落生長(zhǎng)曲線上移至與對(duì)照組基本相同，這也許說明激光對(duì)T.rubrum Y菌落的抑制效應(yīng)可持續(xù)約1周，這種抑制效應(yīng)停止后，菌落可恢復(fù)正常生長(zhǎng)。也為臨床工作中，病人激光治療間隔時(shí)間為1周提供了依據(jù)。
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